Zahořování mikromodulů / TO

customized automatické věže

  • wafer a TO level proces
  • parametry až do 750mA/200V
  • teplotní rozsah od +25°C do +130°C
  • customized programy
  • customized chucks
  • variabilní nastavení pro každý řádek waferu
  • proces s vysokým objemem s minimálním zacházením
  • funkce mapování waferu (sledovatelnost, parametry)
This website uses cookies in order to obtain quality services, advertising personalization and attendance analysis. By continuing to browse the site, you are agreeing to our use of cookies. More information